email:biuro@optotom.pl | tel: +48 664 057 948 

STRONA W TRAKCIE MODERNICAZJI. PRZEPRASZAMY ZA UTRUDNIENIA

Tu zaczyna się jakość - urządzenia dla Twojego laboratorium

Seria BW - Precyzyjny profilometr do sub-nanopowierzchni z bezkontaktowym pomiarem

Opatentowana przez firmę Nikon technologia skanowania z wykorzystaniem interferometrii optycznej pozwala uzyskać rozdzielczość o wysokości 1 pikometra (pm). Firma Nikon oferuje różnorodne mikroskopy optyczne jako systemy pomiarowe do szerokiego zakresu zastosowań pomiarowych.

Zalety i funkcje

Doskonała wydajność pomiaru

Realizuje pomiary ultra-gładkich powierzchni na poziomie 0,1 nm bez procesu uśredniania ani filtrowania.

Umożliwia pomiary z tą samą rozdzielczością wysokości w szerokim zakresie powiększeń.

Umożliwia pomiar zarówno gładkich, jak i szorstkich powierzchni bez zmiany trybu pomiaru lub filtrów optycznych.

Przechwytuje zarówno ostry obraz, jak i obraz wysokości powierzchni.

Szeroka gama metod obserwacji

System może być używany jako mikroskop optyczny. Możliwe są obserwacje w jasnym polu, polaryzacyjne, DIC i fluorescencyjne

SiC Wafer: pomiar poniżej nano w szerokim zakresie powiększeń

Typ: system BW-D501

Obiekt: Próbka z węglika krzemu (SiC

Pomiar nano krawędzi z obiektywami o dużym powiększeniu

Obiekt: Ostre krawędzie

Chropowatość powierzchni papieru (syntetyczny, zwykły, błyszczący, matowy)

Chropowatość powierzchni papieru syntetycznego
Chropowatość powierzchni papieru zwykłego
Chropowatość powierzchni papieru błyszczącego
Chropowatość powierzchni papieru matowego

Chropowatość powierzchni wyrobów ceramicznych

Precyzyjne pomiary powierzchni chropowatych w zakresie mikrometrów

Typ: system BW-A501

Obiekt: Membrana z syntetyzowanego diamentu metodą osadzania chemicznego z fazy gazowej plazmą w stanie ciekłym

Zdjęcia dzięki uprzejmości: dr hab. Hiromichi Toyota, Podyplomowa Szkoła Nauki i Inżynierii Uniwersytetu Ehime

Pakiet IC: pomiar zakresu mikrometrycznego w szerokim zakresie powiększeń

Kalibracja wysokości z certyfikowanym przez NIST standardem VLSI

System BW-D501

Specyfikacje

 High Pixel Resolution Model
 BW-S501BW-S502BW-S503BW-S505BW-S506BW-S507
Measurement optical systemFocus Variation with White Light Interferometry (FVWLI)
Height resolution (algorithm)1pm (0.001 nm)
Step height measurement reproducibilityσ: 8nm / 8m step height measurement
Number of pixels2046 x 2046, 1022 x 1022 (selectable via software)
Height measurement time38 s, 16 s / 10 μm scan
Height measurement range< 90 μm< 20 mm< 90 μm< 20 mm
Measurement field size (using 2.5X)< 4448 x 4448 μm*
Piezo actuatorObjective lens drivenNosepiece driven
Z axisManualElectricManualElectric
XY axisManualElectricManualElectric
SoftwareBridgelements® software modules
 

 

High Speed Model

BW-D501

BW-D502

BW-D503

BW-D505

BW-D506

BW-D507

Measurement optical system

Focus Variation with White Light Interferometry (FVWLI)

Height resolution (algorithm)

1 pm (0.001 nm)

Step height measurement reproducibility

σ8nm / 8m step height measurement

Number of pixels

510×510

Height measurement time

4 s / 10 μm scan

Height measurement range

< 90 μm

< 20 mm

< 90 μm

< 20 mm

Measurement field size

< 2015 x 2015 μm *

Piezo actuator

Objective lens driven

Nosepiece driven

Z axis

Manual

Electric

Manual

Electric

XY axis

Manual

Electric

Manual

Electric

Software

Bridgelements® software modules